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第三百一十四章 弯道超车

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希望大家支持浸润法光刻机作为未来唯一的技术路线,说白了就是只支持ASML。

在场10家芯片制造厂商里有6家技术代表你们的浸润法光刻机没问题,但是我们也希望让157nm干式光刻机继续发展作为备份的技术路线,因为这样一旦浸润式光刻机技术路线遇到阻碍,我们还有第二个选项。

这是非常合理的要求,站在当时那个视角来看,没人能保证浸润式绝对没有问题,工艺制程的发展能够一马平川,毫无阻碍。

结果就是ASML在该会议上痛批这帮芯片制造厂商的技术代表们没有远见,观点的参考价值极其有限。

ASML组织了这次技术研讨会,研讨会后却完全没有用会议的讨论结果,在背后资本主导下,尼康和佳能的157nm干式光刻机失去了整个西方资本主导下芯片代工的市场。

小松正志和他的小松株式会社也在这过程中消失在行业内,再也没有了任何消息。

“大概率是用的浸润法,也就是在镜头和硅片之间加液体,他们光刻机条线的负责人是林本坚博士,他一直坚持浸润法是半导体工艺突破的关键。

只是不知道他们是如何绕过浸润法的困难。”佐藤博人说,他是EUVA在御殿场市的研发团队的负责人。

在光刻机失利后,佐藤博人同样经历了很长一段时间的失落和沉寂,和小松正志比起来,他最后还是走出来了,甚至换了个研究方向重新活跃在学术界。

此时意气风发指点新芯光刻机技术的他们,不会知道这个未来对霓虹的光刻机产业只会更加残酷。

尼康和佳能这次连残羹冷炙都吃不到了。

“我也好奇,因为新芯最早是买的我们的光刻机技术,他们如果要采用浸润法的话,需要完全重新构建整个物镜光路。

这可不是一个小工作。

这需要耗费大量的人力物力。”小松正志说。

作为光源制造商,他很清楚,尼康的技术关键,要想采用浸润式有太多困难了。

最大的困难就是物镜光路的改造,尼康的技术最后一块物镜是曲面的,曲面镜片和浸润式存在天然的不兼容。

而ASML的193nm光刻机最后一片镜片是平的,ASML的物镜系统可以无缝对接浸没式系统。

佐藤博人说:“我每次在IEEE的光学大会上和林博士聊,他对光刻机领域如何利用光源非常精通。

想必在他主导下,加上新芯的人


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